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Horno de deposición de vapor de SiC
Jan 18, 2018


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Parámetros técnicos:

El horno químico de deposición de vapor se puede usar como revestimiento de oxidación superficial y modificación de matriz con silano como fuente de gas.



Producto



Parámetros técnicos:

El horno químico de deposición de vapor se puede usar como revestimiento de oxidación superficial y modificación de matriz con silano como fuente de gas.

El horno de deposición de vapor químico puede diseñar el tamaño de acuerdo con la demanda del cliente, y puede cumplir con el requisito de tratamiento de deposición de vapor químico súper grande de la pieza de trabajo.

El horno químico de deposición de vapor adopta una tecnología de control avanzada que puede controlar con precisión el flujo y la presión de MTS. El flujo de gas en el horno es estable y el rango de fluctuación de presión es pequeño.

El horno químico de deposición de vapor adopta una cámara de deposición de estructura especial, que tiene un buen efecto de sellado y una fuerte capacidad anticontaminación.

El horno químico de deposición de vapor adopta un camino de gas sedimentario multicanal, con un campo de flujo uniforme, sin ángulo muerto de deposición y buen efecto de deposición.

El gas de alta corrosión, gas inflamable y explosivo, polvo sólido y productos pegajosos de bajo punto de fusión producidos por la deposición pueden ser tratados de manera efectiva.

Especificación:

Modelo

VHS-40/40 / 80-1500CVD

VHS-80/80 / 120-1500CVD

VHS-100/100 / 150-1500CVD

VHS-120/120 / 250-1500CVD

Espacio de trabajo

W × H × L (mm)

400 × 400 × 800

800 × 800 × 1200

1000 × 1000 × 1500

1200 × 200 × 2500

Temperatura máxima (℃)

1500

1500

1500

1500

Uniformidad de temperatura (℃)

± 7.5

± 7.5

± 7.5

± 10

Último grado de vacío (Pa)

50

50

50

50

Tasa de aumento de presión (Pa / h)

3

3

3

3


Un par de: horno de sinterización sin presión

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